日前，格罗方德半导体宣布其为推进尖端20纳米的制造工艺走向市场取得的一项重大进展，格罗方德半导体通过利用电子设计自动化(EDA)多家先进厂商与新思科技的流程，成功研制出一种20纳米设计的测试芯片。

       据了解，这种20纳米测试芯片需要双重曝影，并经由各个EDA伙伴的实施而推出了一种综合的配置与绕线设计。而每项设计在制成芯片之前，都经过了格罗方德半导体彻底的效力验证，并以20纳米认可验证台进行检查。正是基于与各个EDA伙伴的尽早且广泛的20纳米合作，所有设计都迅速完成并成功地进入芯片制作阶段。

戈尔引进新一代筒状滤芯

       本报讯12月7日到9日在日本千叶举行的SEMICONJapan2011展会上，戈尔公司将为高密度聚乙烯滤芯系列引入新一代聚四氟乙烯滤膜，用于生产高纯化学品，供半导体和LCD/FPD生产之用。

       据悉，新型GORE滤芯采用戈尔公司最新的ePTFE(膨体聚四氟乙烯)滤膜技术，兼具良好的过滤精度和流量性能。所有非聚四氟乙烯部件均使用高密度聚乙烯(HDPE)，确保有机物和金属离子析出量极低。HDPE系列筒状滤芯有三种过滤精度-0.1μm、30nm和20nm。新型高密度聚乙烯系列筒状滤芯可直接替代现有滤芯，比当前采用的过滤技术流量可提高150%至400%。

凸版光掩模2000万美元扩产

       本报讯近日，上海凸版光掩模有限公司投资2000万美元，扩大用以制造半导体器件的光掩模版的产能，同时也将公司的生产技术能力提至90纳米精细工艺。

       新建厂将达4950平方米，计划于2012年第一季度动工，2012年年底落成。上海凸版光掩模有限公司是由由凸版光掩模与上海微系统信息技术研究所(简称：SIMIT)于1996年共同组建的一家中外合资企业，目前员工约为160人。