近日，全球知名半导体制造商英特尔公司宣布，已开始采用极紫外（EUV）光刻技术大规模量产其最新的Intel 4制程节点。这一消息标志着英特尔在微电子制造领域的技术实力再次取得了重大突破，有望为全球半导体市场带来新的竞争格局。

近日，有关日本可能实施对光刻/薄膜沉积设备出口管制的消息引起了业界的广泛关注。这一消息源于日本政府近期发布的一份文件，该文件提到了对敏感技术和设备的出口管制。虽然目前尚无法确定具体的管制范围和时间，但这一消息无疑给全球半导体产业带来了一定的压力。