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近年来,随着半导体技术的飞速发展,3D NAND 闪存芯片成为了市场的主流。在 3D NAND 闪存芯片制造过程中,蚀刻技术起着关键作用,它直接影响着芯片的性能、功耗和成本。作为半导体产业链中的重要一环,蚀刻技术一直备受业界关注。近日,东京电子宣布推出了一项全新的 3D NAND 蚀刻技术,该技术有望挑战泛林在市场中的领导地位,引发业界广泛关注。
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