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近日,比利时微电子研究中心(imec)于国际光学工程学会(SPIE)举行的先进光刻成形技术会议上,展示其High-NA(高数值孔径)光刻技术的重大进展,包含显影与蚀刻制程开发、新兴光刻胶与涂底材料测试、以及量测与光罩技术优化。
欧洲半导体研究机构IMEC最近宣布将在日本建立研发中心,协助研发2nm芯片。
荷兰半导体设备制造商ASML和比利时纳米电子科技研究中心IMEC已宣布,将共同推进高数值孔径极紫外线(high-NA EUV)光刻技术试验线的研发,以应对未来半导体制造的挑战。
最近,全球知名的半导体研究机构Imec宣布,共享其先进制程技术成果的核心合作伙伴计划迎来了一位新成员——Rapidus公司。
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