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格罗方德7纳米测试良率达65% 未来将积极布局中国市场

来源:http://www.dramx.com/WeeklyResearch/Post/9/11123.html 发布时间:2017-10-31

摘要: 因竞争对手台积电、三星陆续在2018年挺进7纳米先进制程,格罗方德(GLOBALFOUNDRIES)日前也宣布,该公司的7纳米制程不但在测试良率已提升到65%,未来将按照时程使用EUV技术的商用和普及,并与客户AMD展开合作。根据格罗方德先前公布,7纳米制程将在2018年推出,并在年底量产。.学习集成电路知识,了解更多集成电路资讯,认准华强旗舰电子圈!

        因竞争对手台积电、三星陆续在2018年挺进7纳米先进制程,格罗方德(GLOBALFOUNDRIES)日前也宣布,该公司的7纳米制程不但在测试良率已提升到65%,未来将按照时程使用EUV技术的商用和普及,并与客户AMD展开合作。根据格罗方德先前公布,7纳米制程将在2018年推出,并在年底量产。

       根据格罗方德全球销售和业务发展高级副总裁Mike Cadigan日前在中国上海举办的GTC技术大会演讲表示,随着5G即将开始商用,资料传输的速度越来越高,手机需要满足高速且大量的资料传输,需要不同以往的射频元件。在高性能运算需求方面,格罗方德将提供FinFET制程,从14LPP到12LP,再到7LP等各节点的制程技术。

格罗方德7纳米测试良率达65% 未来将积极布局中国市场-电子元器件采购网

        格罗方德首席技术长兼全球研发高级副总裁Gary Patton指出,目前7纳米制程的7LP EUV技术已有积极进展。7纳米LP制程预期将比14纳米制程效能提升40%、功耗降低60%。目前,7纳米测试良率已经提高到65%,将按计划进行EUV技术的商用和普及,并且与客户AMD合作。

        Gary Patton坦言,在EUV技术上,格罗方德的7纳米制程确实面临很多挑战,包括如何进一步提升良率、光罩防尘膜瑕疵等问题,必须努力克服才能投入大规模量产,目标是将良率提高到95%。格罗方德目前采取分阶段采用EUV技术的策略,第一阶段将不采用光罩防尘膜(pellicle),第二阶段才会使用。

格芯成都十二英寸晶圆项目签约仪式-电子元器件采购网

       除了先进制程,传统的成熟制程一般很难满足所有应用的要求,物联网(IOT)对低功耗的要求更高,因此低功耗高性价比要求的应用,格罗方德也针对物联网、移动通信、射频芯片提供22FDX、12FDX等制程解决方案。

      Gary Patton指出,目前格罗方德20、22纳米已进入量产准备阶段,且2018年底前已有15个设计定案,并陆续有135家客户展开初期接触。他指出,目前12FDX性能已经90%达到目标,预计2018年下半年进入试产,2019年上半年正式量产。

       格罗方德在中国的布局方面,受瞩目的成都晶圆厂Fab 11(11厂)厂房施工建设历时8个多月,一期厂房即将于11月初封顶,项目进展十分顺利。预计在2018年完工时,将成为中国境内最大的晶圆厂,并成为中国最先进12寸晶圆厂之一。同时,Fab 11也将成为格罗方德22FDX制程的生产中心。

       预计先期Fab 11会以生产0.13微米到0.18微米的主流成熟技术产品为主,每月产能为20,000片。到2019年下半年,将进行高度差异化的22FDX(FD-SOI)制程量产,届时产量将提高至每月65,000片。

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