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半导体设计生态系完整性提升 市场对FD-SOI需求成长可期

来源:http://news.eccn.com/news_2018020210192649.htm 发布时间:2018-02-02

摘要: 晶圆代工厂GlobalFoundries宣布,全球半导体供应商意法半导体(ST)选择采用GlobalFoundries 22nm FD-SOI(22FDX)制程技术平台,以支援用于工业及消费性应用的新一代处理器解决方案。

       晶圆代工厂GlobalFoundries宣布,全球半导体供应商意法半导体(ST)选择采用GlobalFoundries 22nm FD-SOI(22FDX)制程技术平台,以支援用于工业及消费性应用的新一代处理器解决方案。

       GlobalFoundries指出,ST在业界率先部署28nm FD-SOI技术平台后,决定扩大投入及发展蓝图,采用GlobalFoundries生产就绪的22FDX制程及生态系统,提供第2代FD-SOI解决方案,打造未来智慧系统。

       SOI虽然拥有低功耗等诸多优势,但SOI晶圆本身成本相当高,加上SOI有其特有的Vt值标准单元库、储存编辑器及标准I/O,若设计端要制作SOI的IC,设计工程师得使用专有的工具及内部方法,使得整个设计流程的困难度提高,时序分析也变得复杂,因此只要Bulk CMOS能够达到客户要求的性能及功耗,设计端企业仍会选择采用Bulk CMOS。

        简言之,由于成本及设计上的因素使SOI市场仍无法拥有如Bulk CMOS那样大的市场规模,造成整个FD-SOI发展受限,然ST宣布采用22FDX,不仅看好FD-SOI在物联网及智慧车辆的应用,也意味着FD-SOI对应的设计生态系完整性及成熟度有了进一步发展,如此正向发展下,市场对FD-SOI需求成长可期。

        中国对于半导体产发展思维是以国家战略性角度思考的,因此如何能快速提升中国半导体产业为其目标。

        目前中国IC制造领域最先进制程节点在28nm且良率维持仍须努力,未来14nm又将面临3D晶体管结构FinFET制程技术挑战,开发难度非28nm制程所能比拟,对于想要在半导体产业弯道超车的中国,在22nm仍为平面晶体管结构的SOI,不仅降低IC制造端难度又可以发展媲美28nm制程性能产品。

        此优势对中国IC设计及晶圆代工厂商有一定吸引力,在ST等国际大厂对FD-SOI积极投入下,未来中国半导体厂商投入FD-SOI技术开发的机会将随之提高。

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