摘要: TDK IFM10M系列噪声抑制片是高磁导率超薄磁片
TDK的IFM10M系列噪声抑制片由磁层和超薄镀铜层组成,可实现高磁导率。IFM10M薄片比现有的磁性薄片薄60%,并在500 kHz至10 GHz的宽频率范围内提供等效的噪声抑制性能。铜层1μm厚导致新的Flexield产品的总厚度仅为0.04毫米。
超薄镀铜层的设计是基于阿基里斯公司开发的电镀工艺技术。由于这项技术,IFM10M薄片保持了一个低轮廓,不再需要一层双面胶带,使薄片理想的高度限制应用,如智能手机,平板电脑,笔记本电脑和手写笔。
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