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2.5D/3D先进封装领域资本支出排名:英特尔第一,台积电、日月光紧随其后

来源:芯智讯 发布时间:2022-03-21

摘要: 3月21日消息,由于3nm及更先进制程投资成本越来越高,为了继续推进芯片整体性能和成本并降低成本,2.5D/3D先进封装技术越来越受到产业界的青睐,并已进入高速成长期。根据市场研究机构Yole Developpement统计,英特尔及台积电去年在先进封装领域的资本支出居于领先地位,同时掌握了技术制定的话语权,日月光投控及三星则紧追在后,前四大厂厂商的资本支出合计占比高达85%。

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3月21日消息,由于3nm及更先进制程投资成本越来越高,为了继续推进芯片整体性能和成本并降低成本,2.5D/3D先进封装技术越来越受到产业界的青睐,并已进入高速成长期。

根据市场研究机构Yole Developpement统计,英特尔及台积电去年在先进封装领域的资本支出居于领先地位,同时掌握了技术制定的话语权,日月光投控及三星则紧追在后,前四大厂厂商的资本支出合计占比高达85%。

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根据Yole  Developpement数据显示,去年全球2.5D/3D封装前七大半导体厂资本支出合计达119.09亿美元,其中,英特尔、台积电、日月光投控排名前三大,三星及安靠(Amkor)紧追在后,大陆封测厂商长电科技及通富微电亦排名第六及第七。

由于芯粒(chiplet)设计已成为未来高性能芯片的发展趋势,2.5D/3D封装资本支出在未来三年成长幅度将明显拉高。

Yole  Developpement数据显示,去年全球先进封装市场规模达27.4亿美元,2021~2027年的年复合成长率(CAGR)将达19%,2027年市场规模会成长至78.7亿美元。

英特尔去年在2.5D/3D封装领域的资本支出达35亿美元,主要投入Foveros及EMIB等先进封装技术研发及产能扩建。英特尔认为3D封装能延续摩尔定律,给予设计人员横跨散热、功耗、高速信号传递和互连密度的选项,最大化和最佳化产品效能。其中,今年将推出的Sapphire Rapids服务器处理器及Ponte Vecchio数据中心GPU芯片,以及开始试产的Meteor Lake处理器都将采用Foveros技术。

台积电在2.5D封装方面已推出CoWoS及InFO等技术并进入量产,去年2.5D/3D封装资本支出达30.49亿美元,位居全球第二,将扩大系统整合芯片(TSMC-SoIC)中多种3D Fabric平台的WoW(晶圆堆叠晶圆)及CoW(芯片堆叠晶圆)先进封装技术推进及产能建置。

据了解,包括苹果、联发科、AMD、赛灵思、博通、英伟达等大客户都已经采用台积电的先进封装技术。

日月光投控去年在2.5D/3D封装领域的资本支出达20亿美元,排名第三,凭借在FoCoS先进封装技术的布建,是目前在封测代工(OSAT)产业中唯一拥有超高密度扇出解决方案的业者。

三星去年在2.5D/3D封装领域的投资达20亿美元,近期已计划整合旗下封测相关资源加快先进封装布局,以因应HPC应用在异质芯片整合的快速发展。安靠去年在2.5D/3D封装领域的投资约7.8亿美元,布局动作维持稳健。

前五大厂累计在先进封装的资本支出占了全球总投资的91%,说明市场仍由一线大厂主导。

编辑:芯智讯-林子    来源:工商时报


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