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美国安维谱推出新机型Supra E

来源:http://news.hqew.com/info-154656.html 发布时间:2009-04-22

摘要: 在2009年4月21日到24日的上海Nepcon展会上,美国安维谱有限公司(MVP)将在其展位4F18上演示其最新机型Supra E。 MV...

     在2009年4月21日到24日的上海Nepcon展会上,美国安维谱有限公司(MVP)将在其展位4F18上演示其最新机型Supra E。
    
     MVP的最新机型Supra E在极具竞争力的价格基础上,提供了全面完善的性能和解决方案。Supra E配备革.命性的易用型iPro软件,为AOI设备制定了高性价比的行业标准。
    
     MVP介绍了高性价比的机型Supra E, 该机型标配了五百万像素的相机和三色光。解析度在7-17um之间,把01005元件的检测水平提高到可区别锡形状况,最大可测板面积达508毫米×508毫米(即20英寸× 20英寸)。无论产量大小,不管检测情况多么复杂,该机型都可谓是理想AOI机型。
    
     Supra E具备所有传统AOI所需,也可灵活地放置在生产线的任何位置,而不需要调整任何配置。
    
    

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