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Point 35 Microstructures将推出新的memsstar®微机电系统生产平台

来源:http://news.hqew.com/info-153526.html 发布时间:2009-03-13

摘要: 苏格兰利文斯顿,2009年3月11日 — 全球微机电系统(MEMS)产业蚀刻和沉积设备供应商Point 35 Microstructures,今天宣布将于3月17-19日在于上海举行的SEMICON China 2009上推出其新型memss...

     苏格兰利文斯顿,2009年3月11日 — 全球微机电系统(MEMS)产业蚀刻和沉积设备供应商Point 35 Microstructures,今天宣布将于3月17-19日在于上海举行的SEMICON China 2009上推出其新型memsstar®制造系统。与此同时,公司还将发布其中国市场营销和服务战略。
    
     中国新的工业化进程正在推动着许多无晶圆厂半导体公司和先进元件公司对MEMS技术与产品更多的关注。例如,2008年中国的制造厂商生产了大约932万辆汽车和5.6亿部移动电话,因此中国正在成为诸如速度传感器和硅麦克风这样的MEMS器件最重要的市场之一。现在,MEMS更多的应用领域正在不断涌现,这类产品可以广泛应用在诸如移动通信、计算机、消费电子、医疗器械和工业电子等等领域中。
    
     为了满足这些市场需求,Point 35将其新型MEMS平台和完善的服务带到了中国。该公司的memsstar®除了以可靠性著称外,该系统还可以用于不同类型的MEMS产品,并可覆盖从开发到批量生产的各个阶段。Point 35正在中国建立它的服务体系以支持本土潜在的memsstar®合作伙伴,还将与其中国本土分销商WESI Technology公司一起参加SEMICON China 2009,其展位号为#4722。
    
     “全球MEMS产业越来越需要用于释放刻蚀和涂敷的创新性研究和制造设备解决方案,而这个领域在memsstar®出现之前还是一片空白。”Ponit 35 Microstructures的营销副总裁和共同创始人Tony McKie说:“MEMS产品在中国具有广阔的发展前景,因此我们来到SEMICON中国并将展示我们最先进的系统。我们期待着与中国的合作伙伴一起,共同建立一个强大的MEMS开发和制造产业。”
    
     memsstar®采用汽相单晶圆工艺来完成大部分MEMS器件所需要的释放腐蚀和表面修正工艺步骤。它采用独特的CCFT™工艺控制技术和广泛的化学品,用户得到了拓宽的工艺窗口和集成的工艺控制,这远远超过了其它现有的系统和方法。各种memsstar®系统以低入门级成本提供了快速的产能、小体积、低消耗和低排放、可扩展平台、工艺控制和高重复性。系统配置可以匹配到从研发到大批量生产的任何一种情况,实现在各种环境之间的无缝转接。具体的应用包括运动传感器、微显示器、硅麦克风、流体通道、测辐射热计阵列、压力传感器等等。
    

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