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IR推出工业应用的沟道型HEXFET功率MOSFET

来源:http://news.hqew.com/info-150073.html 发布时间:2008-11-05

摘要: 国际整流器公司(International Rectifier,简称IR)宣布推出具有基准低通态电阻(RDS(on))的沟道型HEXFET功率MOSFET系列。这些采用TO-247封装的MOSFET适用于同步整流、动态ORing及包括高功率D...

     国际整流器公司(International Rectifier,简称IR)宣布推出具有基准低通态电阻(RDS(on))的沟道型HEXFET功率MOSFET系列。这些采用TO-247封装的MOSFET适用于同步整流、动态ORing及包括高功率DC马达、DC-AC转换器及电动工具等工业应用。
    
     新MOSFET的通态电阻(RDS(on))能效比同类产品高出达50%,无需工业应用中通常使用的大型及昂贵封装,有助于节省总系统成本。此外,低RDS(on)可降低导通损耗,并提升系统效率。
    
     全新N沟道MOSFET系列可提供40V至200V电压,也符合工业级及MSL1要求。新MOSFET均不含铅并符合电子产品有害物质限制(RoHS)指令。
    
    
     产品基本规格如下:
    
    


    
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