摘要: 台湾达思(DAS)推出UPTIMUM,该设备专为在使用端(Point-of-Use)达到高效率废气处理而设计,在化学气相沉积(CVD)制程中,可达到最高每分钟500公升( slm)的废气处理效率,解决许多精进制程在...
台湾达思(DAS)推出UPTIMUM,该设备专为在使用端(Point-of-Use)达到高效率废气处理而设计,在化学气相沉积(CVD)制程中,可达到最高每分钟500公升( slm)的废气处理效率,解决许多精进制程在提高生产效率的同时相对带来的挑战。
该款废气处理设备首次售予台湾的太阳能电池制造商。太阳能电池厂商在制造抗反射薄膜及钝化保护层时会产生一氧化二氮(N2O),目前台湾政府已计画将此类气体列入应处理的废气项目,而UPTIMUM便是运用成熟的燃烧/水洗技术来分解一氧化二氮的最佳方案,此建议并已获台湾一知名研究机构认同。
除了UPTIMUM优异的处理能力外,达思也透过低能源消耗、设备的高使用率,以及全年无休的完善服务,取得新客户的最终信赖。
达思将于今年9月5日至7日于台北南港展览馆所举行的「SEMICON Taiwan 2012国际半导体展」中展示相关解决方案。
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