IMEC近日宣布推出逻辑工艺开发套件，这个套件用以解决14纳米节点逻辑工艺的开发工具包，将极大地提高技术水平以及开发效率。14纳米PDK作为IMEC Insite合作研究项目的一部分而开发，曾有报道称Altera公司、NVIDIA公司与美国高通公司都是该项目的参与者。

  IMEC的研究伙伴目前可这个开发工具包的使用权，将来还可以进行后续的更新。IMEC和其合作伙伴正在使用该工具包开发14纳米测试芯片，预计将在2012年下半年发布，IMEC表示。 IMEC拥有一座300毫米研究晶圆厂，其中包括EUV步进光刻机。这是世界上极少有的可以尝试生产14纳米测试芯片的设施。

  这套PDK的主要用途之一是帮助公司开发FinFET器件工艺。与传统的平面晶体管技术相比，这些鳍状的晶体管位于晶圆表面，能以很低的电源电压驱动较大面积电路单元，且性能更高。该PDK的一些革命性，还在于有望引进高迁移率沟道材料的使用。这些材料包括锗、化合物半导体材料和石墨。这套PDK还支持浸没式光刻和EUV光刻技术，为从193纳米浸没式逐步过渡到EUV光刻技术开辟了道路。

  今年下半年将推出的测试芯片将可进行性能和功耗的物理测量，以及设备、互连、工艺和光刻假定的初次测试。（责编;叶松柏）