（华强电子世界网讯）日本冲电气工业日前成功地开发出了使用0.15μm CMOS工艺的系统LSI（cell-base LSI）--“MG7xK系列”产品，2003年4月开始受理订单。此次的产品是在与台湾联华（UMC）全面合作的基础上开发成功的，是该公司支持0.15μm制造工艺的首款产品。
    
      冲电气目前已经参加了UMC及其日本法人--日本联华（UMCJ）旨在进行IP内核测试认证的“Gold IP项目”。这样，其客户不仅可以使用冲电气的IP内核，还可以使用Gold IP项目中的IP内核。另外，冲电气还是向UMC/UMCJ的客户提供设计技术服务的“Design Plus合作伙伴”。
    
      此次开发的产品与“MG7xM系列（0.16μm工艺ASIC）”相比，不仅每个门电路的速度提高了30%，而且还降低了25%的耗电量。最大可集成的门电路数为10M门，最大I/O数为868 pad。另外，还支持在ARM公司CPU内核的基础上集成了硬件和软件的“μPLAT”平台。定于2003年8月量产供货。该公司的目标是3年销售额达到100亿日元（约合人民币6.78亿元）。