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面记录密度达硬盘一半的NAND型闪存

来源:http://news.hqew.com/info-119844.html 发布时间:2004-12-01

摘要: (华强电子世界网讯)在单一存储LSI中,全球容量最大的8Gbit NAND型闪存EEPROM的有关细节将在“ISSCC 2005”上发布。发布者包括东芝与美国SanDisk的联合开发小组,以及韩国三星电子。将发布的均为封装在大约1.2cm见方的芯片上...

    (华强电子世界网讯)在单一存储LSI中,全球容量最大的8Gbit NAND型闪存EEPROM的有关细节将在“ISSCC 2005”上发布。发布者包括东芝与美国SanDisk的联合开发小组,以及韩国三星电子。将发布的均为封装在大约1.2cm见方的芯片上的产品,以面记录密度换算,达现有硬盘的一半左右。如果记录密度就这样以每年2倍的速度提高的话,那么2年内便可超过年增长率为1.3倍的硬盘。
    
      东芝与Sandisk公司通过最小加工尺寸为70nm的CMOS技术和2bit/单元的多值技术相配合,在146mm2的芯片上实现了8Gbit的容量。写入时的数据传输速度为6MB/秒。东芝计划2005年量产该NAND型闪存EEPROM。
    
      三星开发的8Gbit产品采用最小加工尺寸为63nm的CMOS技术生产。也采用了2bit/单元的多值技术。芯片尺寸为133mm2,比东芝的产品小一成。单元面积为0.02μm2。数据传输速度方面,写入时为4.4MB/秒,读取时为23MB/秒。两产品均将存取周期从50ns缩短到了30ns、提高了速度。
    
    

(编辑 keil)

    
    
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