ADI开发出工业设备专用高耐压CMOS工艺技术

来源：http://news.hqew.com/info-117207.html 发布时间：2004-10-21

摘要： （华强电子世界网）美国ADI（Analog Devices，Inc.）公司新开发出了专门用于工业设备的CMOS工艺技术，利用该工艺的半导体产品下月上市。该技术将最高30V左右的高耐压双极性CMOS工艺和适用于逻辑电路的CMOS工艺集成在一个IC中，这...

    （华强电子世界网）美国ADI（Analog Devices，Inc.）公司新开发出了专门用于工业设备的CMOS工艺技术，利用该工艺的半导体产品下月上市。该技术将最高30V左右的高耐压双极性CMOS工艺和适用于逻辑电路的CMOS工艺集成在一个IC中，这样就可以将以往需要分别使用高电压工作的大功率晶体管和低电压工作的逻辑IC集成在一个芯片上，适合应用于工厂控制设备的传动设备驱动电路和计量器等需要高电压输入的电路中。

     据悉该技术是首先将应用于A-D/D-A转换IC以及运算放大器中。详细计划将在2004年11月份公布。

（编辑 keil）

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