瑞典Micronic Laser Systems开发出了面向65nm和45nm掩膜制造的激光掩膜绘制装置“Sigma 7500II”。激光掩膜绘制装置由于在绘制时间上不依赖于图形尺寸，因此，与电子束(EB)绘制装置相比，可提高量产能力。比如Sigma 7500II，以1/200的缩小比例，1秒钟内可发射2000次激光。“使用激光掩膜绘制装置，掩膜绘制成本可降低40％，相当于掩膜制造成本的15％左右”（台积电在Photomask Japan 2007上的演讲：4月17日研讨会1-04）

  Sigma 7500II采用了空间光调制器技术（SLM）（图1）。其基本理念与缩小投影曝光装置相同，在与掩膜相对应的部分配备有空间光调制器。利用空间光调制器，可快速形成微细图形，适用于45nm的掩膜制造。

  另外，Sigma 7500II还通过配备称为“Linearity Equalizer”的OPC功能，将图形依赖性降到了200nm（在晶圆上为50nm）。在微细图案的形成方面，采用波长为248nm的受激准分子激光（KrF），因此性能低于电子束绘制装置，不过仍可适用于60～70％的45nm产品用掩膜。

  现在，LSI及平板显示器（FPD）用掩膜绘制装置采用的是电子束或激光。目前，子束掩膜绘制装置厂商有NuFlare Technology和日本电子2家公司，而激光掩膜绘制装置的厂商仅Micronic一家。后者的产品有80％面向的是FPD，并且50％的客户是日本厂商。此次Micronic发布支持45nm掩膜的激光掩膜绘制装置，估计是为了今后加大在LSI用掩膜绘制装置领域的投入。

  另外，日立高新技术（Hitachi High-Technologies）已停止开发新的电子束绘制装置，美国应用材料也停止了对激光掩膜绘制装置的新开发。（

来源：日经BP社