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东芝发表第二代碳化硅萧特基位障二极体

来源:http://news.hqew.com/info-309132.html 发布时间:2017-02-27

摘要: 东芝半导体与储存产品公司,近期发表第二代650V碳化硅(SiC)萧特基位障二极体(SBDs),该产品提升了公司现行产品的涌浪顺向电流(IFSM)约70%。8个碳化硅萧特基位障二极体的新产品线也即将出货。此款碳化硅萧特基位障二极体,採用东芝第二代碳化硅的製程製造,相较第一代产品,提升了70%的涌浪顺...

  东芝半导体与储存产品公司,近期发表第二代650V碳化硅(SiC)萧特基位障二极体(SBDs),该产品提升了公司现行产品的涌浪顺向电流(IFSM)约70%。8个碳化硅萧特基位障二极体的新产品线也即将出货。

  此款碳化硅萧特基位障二极体,採用东芝第二代碳化硅的製程製造,相较第一代产品,提升了70%的涌浪顺向电流,且同时降低切换损失的RON*Qc指数约30%,使其适合用于高效率的功率因素修正方案。

  新产品有4A、 6A、 8A和10A四种额定电流,用非绝缘的TO-220-2L或绝缘的TO-220F-2L包装。这些产品有助于改善4K大银幕液晶电视、投影机和多功能印表机的电源供应器效率,以及电信基地台和PC伺服器的工业设备。



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