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全球领先的半导体设备制造商泛林集团公司今天宣布,公司推出了基于Flex电介质刻蚀系统的原子层刻蚀(ALE)技术,从而进一步扩大了其旗下的ALE产品家族。得益于泛林集团先进的混合模式脉冲 (AMMP) 技术,新型 ALE 工艺可在原子层面进行控制,以应对逻辑器件尺寸缩小至 10 nm 及以下技术节点...
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