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KLA-Tencor公司宣布推出全新的FlashScanTM空白光罩*检测产品线。自从1978年公司推出第一台检测系统以来,KLA-Tencor一直是图案光罩检测的主要供应商,新的FlashScan产品线宣告公司进入专用空白光罩的检验市场。光罩坯件制造商需要针对空白光罩的检测系统,用于工艺开发和批...
KLA-Tencor公司针对 10 奈米及以下的光罩技术推出了叁款先进的光罩检测系统,Teron 640、Teron SL655 和光罩决策中心 (RDC)。所有这叁套系统是实现目前和下一代光罩设计的关键,因此光罩和积体电路晶圆厂能够更高效地辨识微影中显着并严重损害良率的缺陷(defect)。利用...
在美国西部半导体设备暨材料展(SEMICON West) 上,KLA-Tencor公司宣布推出四款新的系统——2920系列、Puma 9850、Surfscan SP5和eDR-7110——为16nm及以下的集成电路研发与生产提供更先进的缺陷检测与检查能力。2920系列宽波等离子图案晶圆缺陷检测系...
KLA-Tencor公司日前宣布推出WaferSight PWG已图案晶圆几何形状测量系统、LMS IPRO6光罩图案位置测量系统和K-T Analyzer 9.0先进数据分析系统。这三种新产品支持KLA-Tencor独特的 5D图案成型控制解决方案,此方案着重于解决图案成型工艺控制上的五个主要问...
KLA-Tencor公司今天针对7奈米以下的逻辑和尖端记忆体设计节点推出了五款显影成型控制系统,以帮助晶片製造商实现多重曝光技术和EUV微影所需的严格製程公差。在IC製造厂内,ATL?叠对量测系统和SpectraFilm?F1薄膜量测系统可以针对finFET、DRAM、3D NAND和其他复杂元件...
今天,专为半导体和相关产业提供制程控制及成品率管理解决方案的全球领先供应商 KLA-Tencor 公司(纳斯达克股票代码:KLAC)推出了他们最新一代的 PROLITH光刻模拟软件。PROLITH X3.1 让处于前沿领先地位的芯片厂商、研发机构及设备制造商能够迅速且极具成本效益地解决EUV和两次...
近日,KLA-Tencor 公司宣布推出 Teron? SL650,该产品是专为集成电路晶圆厂提供的一种新型光罩质量控制解决方案,支持 20nm 及更小设计节点。Teron SL650 采用 193nm光源及多种 STARlight? 光学技术,提供必要的灵敏度和灵活性,以评估新光罩的质量...
KLA-Tencor公司(纳斯达克股票代码:KLAC)今日针对次十奈米(sub-10nm)积体电路(IC)元件的开发和量产推出四款创新的量测系统:Archer?600叠对量测系统,WaferSight?PWG2图案化晶圆几何形状测量系统,SpectraShape?10K光学线宽(CD)量测系统和S...
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