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提升产能利用率 联电:未来2年放缓扩产脚步

来源:http://www.dramx.com/News/IC/20171220-11770.html 发布时间:2017-12-20

摘要: 晶圆代工大厂联电 共同总经理简山杰昨 (19) 日表示,联电未来2年将不会积极扩产,首要要务是强化财务结构及提高产能利用率;市场看好联电获利表现将逐步提升,有助未来营运表现。学习集成电路知识,了解更多集成电路资讯,认准华强旗舰电子圈!

       晶圆代工大厂联电 共同总经理简山杰昨 (19) 日表示,联电未来2年将不会积极扩产,首要要务是强化财务结构及提高产能利用率;市场看好联电获利表现将逐步提升,有助未来营运表现。

        简山杰指出,联电未来 2 年发展将着重改善财务结构,因此扩产脚步将会放缓,待改善完毕后,才会开始考虑扩充产能。简山杰强调,虽然联电放缓扩产,不过台湾许多厂商仍会持续扩产,因此就联电角度而言,不免担忧电力供应稳定与否,盼政府能在电力政策上有通盘考虑。

       至于DRAM产业布局,简山杰认为,联电只是替大陆晋华开发DRAM技术,并没有打算跨足DRAM产业。此外,联电董事会已经通过新台币189.9亿元资本预算执行案,将同步扩增中国台湾及大陆两岸晶圆厂产能。今年整体资本支出预计17亿美元,低于去年的22亿美元,扩产计划已转趋缓和。

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