2011年12月7日，应用材料公司推出Applied SEMVision? G5系统，延续了其在SEM[i]缺陷评测技术领域的领导地位。该系统是首款使芯片制造商在无需人工干预下自动成像和分析生产环境中制约芯片成品率的20纳米级别缺陷的设备。以1纳米的像素尺寸识别并成像相应缺陷的独特能力使SEMVision G5系统能够帮助逻辑芯片和存储器客户提高制造效率，比以往任何时候都更快更准地找出导致缺陷的根本原因。

       业界优异的1纳米像素尺寸、无可匹敌的图像质量和强大的分析引擎，使SEMVision G5成为能够在最具挑战性的布图膜层中识别、分析并找出缺陷，同时还能提高产量的唯一DR-SEMii系统。除此之外，该系统还在识别错报或滋扰缺陷方面树立了新的标杆。测试发现，该系统不仅比专业操作员更准更快，还能使客户在单位时间内更经常地检测更多的硅片，加快学习周期、快速提高成品率。

       突破性的SEMVision G5系统采用开放式结构平台，能够将来自硅片检测系统的数据与一系列预先设定的缺陷评测策略进行动态结合。该系统可自动创建新的缺陷评测步骤，与针对每种待检测芯片类型而耗费时间手动创建缺陷评测步骤的同类设备相比，这是个关键优势。该性能对于芯片代工客户至关重要，他们每年要制造数千种新设计的芯片，必须快速实现高成品率。

       “SEMVision G5系统卓越的成像能力和全自动模式能够为我们的客户带来竞争优势，帮助他们缩短产品进入市场的时间，这是满足当今瞬息万变电子产业短产品周期要求的关键。” 应用材料公司副总裁兼工艺诊断及控制事业部总经理Itai Rosenfeld表示，“我们已经向客户交付了多套SEMVision G5系统，还获得了追加订单。客户的迅速采用证明了该产品的价值，以及对我们在此关键芯片制造技术领域长达13年领导地位的认可。”