7月13日SüSS MicroTec 股份公司旗下全资子公司HamaTech APE有限公司，推出MaskTrack Pro Bake/Develop (BD)（MaskTrack Pro? 烘烤/显影机），将其植入下一代光刻掩模版的完整性平台。产品主要针对先进193i光浸没和极紫外光刻（EUVL）掩模版的生产。

MaskTrack Pro BD采用独特的ASonic?显影技术，包含卓越的曝光后烘烤技术，可实现完美的CD均匀性匹配。这一点，对于亚22纳米双重图形技术（DPT）和未来先进光刻生产尤为重要。该设备专为均衡显影速率而设计，特征尺寸和图形载入相对独立，ASonic?技术最大程度降低暗区损失，避免图形损坏和遗漏，实现无与伦比的高保真图形效果。新的MaskTrack Pro BD拥有独特的镜面烘烤技术，掩模版层达到极大的曝光后烘烤均匀性，同时又与设备整机的温度、配方、运行保持一致。MaskTrack Pro BD独特的工艺，保证了掩模版的完整性，高精度地将曝光图形转移为最终掩模版图形，极大提高了用户的掩模版良率。

 “我们的客户要求设备能突破下一代光刻的技术障碍，于是我们在2009年推出Mask Track Pro清洗平台，”HamaTech首席执行官Wilma Koolen-Hermkens说，“客户反映良好，为了满足他们的进一步需求，我们延伸了下一代光刻的掩模版生产线，植入烘烤和显影技术。”

 “我们相信掩模版完整性是先进光刻成功的关键要素。曝光时，如果没有原始的、无瑕疵的掩模版，下一代光刻工艺的良率将大大降低。” SUSS MicroTec 首席执行官兼总裁Frank P. Averdung补充道，“随着掩模版工艺生产线的日趋完整，SUSS MicroTec进一步巩固了在下一代光刻设备市场的领导地位。”

今年年末，第一台新设备将运往亚洲。